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| Chamlide
Chamber ( Non-Perfusion
type ) 组合式培养槽
(
非灌流式
)
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35
mm dish type chamber for
18 / 25 mm coverslip |
组合式培养槽 ( 非灌流式 )
磁座专利设计, 可灭菌,
不泄漏, 使用安装简易.
可使用口径 18 或
25 mm 盖玻片.
( 左图为单孔式 )
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35
mm dish type chamber for
125 mm coverslip,
multi-wells type. ( 2
wells, 4 wells ) |
如上,
但为多孔式组合式培养槽 ( 非灌流式 ), 仅可使用口径25
mm 盖玻片, 可组成 2 孔
或 4 孔式培养槽.
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Multi-hole
bottom plates ( for
Chamlide chambers ) |
多孔式培养槽载物台, 供上述
Chamlide Chamber 使用, 有
2 孔
及 6 孔式,
供选配.
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Well-Slide
( Slide glass chambers,
for 3, 6, 12 wells ) |
多孔式培养槽载物台, 必须使用载玻片 ( Glass Slide ), 可组成 3, 6, 12 孔.
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Chamlide
WC - Water circulation
cooling chamber |
低温用组合式培养槽 ( 非灌流式 ), 可使用口径 18 或 25 mm 盖玻片. 冷却循环 (
必须配合 Cooling circulator ) |
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| Chamlide
Perfusion Chamber
组合式培养槽
(
灌流式
)
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| Perfusion
type, Open chamber 组合式培养槽
(
开放式
,
灌流
)
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Chamlide
AC
Water
volume adjustable
perfusion chamber |
组合式培养槽 ( 灌流式, 可调节灌流溶液量
), 可使用口径18 或 25 mm 盖玻片
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Chamlide
EC
Electric
stimulation perfusion
chamber |
组合式培养槽 ( 灌流式, 可调节灌流溶液量
), 可使用口径18 或 25 mm 盖玻片,内置白金电极, 可接一般刺激器.
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| Perfusion
type, Close chamber
组合式培养槽
(
密闭式
,
灌流
)
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Chamlide
SC
Shear
Stress Chamber |
组合式培养槽 ( 灌流式, 冲洗应用, 无需使用真空帮浦即可密闭
), 可使用口径18 或 25 mm 盖玻片
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Chamlide
CF
Closed
Perfusion Chamber |
组合式培养槽 ( 灌流式, 一般应用, 无需使用真空帮浦即可密闭
), 可使用口径18 或 25 mm 盖玻片 |
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Heating
plate ( for Chamlide
perfusion chamber ) |
单通道温控器, 使用于上述所有 Chamlide Chamber组合式培养槽
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| Chamlide
Satge Incubator System 显微镜载物台上使用的培养箱
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| for
K-type holder / XY
auto-stage |
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Chamlide
TC |
Chamlide
TC 包括更种专利的磁座式培养槽及置放于载物台的固定座,
以及
三通道温控设计,
可控制培养箱,
物镜温控用加热带,
湿度产生加热器.
独家的温控玻璃,
提供高解析穿透光影像撷取观察应用,也同时防止培养细胞的水分蒸发.
控制器具有流量计,
可控制已制备
5% CO2 ( 95% Air ) 的气体流速
( 流速低于
40 ml/min ).
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Chamlide
WP |
适合高通量活细胞影像应用,
标准使用
24-孔培养盘,
其它孔洞
( 2 – 96 孔
) 皆可选配
专利的温控玻璃透光性佳,
可应用高解析影像.
备有各厂牌载物台适用的拖盘
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| for
Piezo-stage
................. |
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ASI
type Chamlide TC |
仅适用于
ASI
厂的 |
